Kaiser hat die optische Lithographie als Basistechnologie in der Chipherstellung vorangetrieben und damit eine weitere Miniaturisierung der Chipstrukturen ermöglicht. In enger Zusammenarbeit mit ASML ist er einer der maßgeblichen Wegbereiter in der Entwicklung von Lithographiesystemen für 248 nm sowie in der Einführung der 193 nm Immersionslithographie. Zudem ist er entscheidend an der Entwicklung von Optiksystemen für die EUV-Lithografie beteiligt, die als zukünftige Technologie für die Herstellung noch kleinerer Chipstrukturen gilt.

Der European SEMI Award wird an Einzelpersonen in Unternehmen, Universitäten oder Forschungsinstituten für herausragende Leistungen in den Bereichen Halbleitertechnik, Mikrosysteme und Displaytechnologie verliehen. Bereits zum dritten Mal erhält ein Mitarbeiter von ASML diese Auszeichnung.