Schoeller investiert in neue Galvanikanlage

Die von einem deutschen Hersteller für Galvanikanlagen gebaute Anlage soll noch im ersten Quartal 2018 in Betrieb genommen werden. Im ersten Schritt wird die neue Maschine parallel zu der bestehenden Anlage gefahren, soll diese aber letztendlich komplett ersetzen. Mit der neuen Anlage, die eine deutlich verbesserte Ökobilanz aufzeigt, soll eine noch bessere Gleichmäßigkeit und geringere Toleranz bei der Kupferabscheidung bei starren sowie auch flexiblen Materialen erreicht werden, heißt es beim Unternehmen. Die vertikale Galvanikanlage ist so konzipiert, dass sie speziell die Herstellung von HDI-Leiterplatten mit hochdichtem Leiterbild in Feinstleitertechnik unterstützt. So können sowohl flexible als auch starre Materialien ab einer Dicke von 25 μm (ultradünne Substrate mit 12,5 μm Substratdicke plus Kupferkaschierung) verarbeitet werden. Im Frühjahr 2017 hatte die Gruppe bereits eine neue Galvanikanlage bei Hans Brockstedt Leiterplatten in Kiel in Betrieb genommen. Mit dieser Investition führt die EES Gruppe nun ihren Plan fort, den Firmenverbund für die Zukunftsanforderungen zu stärken und technologisch weiterzuentwickeln.