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Komponenten | 07 Mai 2008

SÜSS MicroTec schließt Lizenzvereinbarung mit Philips Research

SÜSS MicroTec ist in eine Lizenzvereinbarung mit Philips Research in Eindhoven/Niederlande eingetreten.
In dem gemeinsamen Projekt mit Namen Substrate Conformal Imprint Lithografie (SCIL) soll eine bereits existierende Geräteplattform mit dem zusätzlichen Nanoimprinting-Feature (NIL) ausgestattet und auf den Markt gebracht werden. Durch SCIL eröffnen sich neue Möglichkeiten für die Bearbeitung großflächiger Prägeanwendungen mit hervorragender Auflösung und Reproduzierbarkeit.

Die neue Prägetechnologie zur Erzeugung von Strukturen im sub-50 nm-Bereich schließt eine technische Lücke. Denn bislang war eine hohe Auflösung nur auf kleinen Flächen unter Verwendung eines harten Stempels erreichbar, während bei großflächigen Anwendungen mit Einsatz von weichen Stempeln nur Strukturen von unter 200 nm möglich waren. Mit SCIL hingegen lassen sich nun auch mit weichem Stempel bei großflächigen Anwendungen Strukturen im Bereich kleiner 50 nm erzeugen. Dabei sind Aspektverhältnisse von bis zu 1:5 und mehr möglich. Die Aushärtung des Materials erfolgt bei Raumtemperatur und ohne Einwirkung von UV-Licht.

Grundsätzlich können alle Laboraligner von SÜSS MicroTec, die zum Prozessieren von 150- und 200 mm-Wafern eingesetzt werden (wie zum Beispiel MA6 und MA8), mit dem SCIL-Feature nachgerüstet werden. Zur Prozessevaluierung steht der Versuchsaufbau bei Philips bereits jetzt schon zur Verfügung. Die Markteinführung der SÜSS-Laboraligner mit integrierter SCIL-Funktionalität soll später im Jahr erfolgen.

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